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学科・専攻科教員紹介
- 総合科学科 / 電子制御工学科 / 産業システム工学専攻
酒池 耕平
| 英名 | Kohei Sakaike |
|---|---|
| 学科 / 専攻科 | 総合科学科 / 電子制御工学科 / 産業システム工学専攻 |
| 職位 | 准教授 |
| 学位 | 博士（工学） |
| 役職・委員 | 専攻科長、電子制御工学科５年担任補佐、電子制御工学科４年担任補佐、運営委員会、総合企画調整会議、専攻科委員会、教務委員会、入試委員会、施設整備委員会、FD委員会、ハラスメント防止対策委員会 etc. |
| 専門分野 | 半導体工学 |
| 所属学会・協会 | 公益社団法人 応用物理学会 |
| 主な研究テーマ |
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| キーワード | #絶縁膜#フレキシブルデバイス#シリコン#金属薄膜 |
| 技術相談分野 |
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担当科目
研究紹介
フレキシブルエレクトロニクスの飛躍的な進歩に貢献する超低温プロセス技術の開発
特徴
半導体デバイスのゲート絶縁膜や層間絶縁膜、ガスバリア層など多岐に応用が可能な二酸化珪素 (SiO2) 薄膜は、液体のプリカーサーであるパーヒドロポリシラザン (Perhydropolysilazane : PHPS) 溶剤を用いることで様々な基材上に非真空・大気圧下で成膜することが可能となる。無機膜が得られるPHPS (SiH2NH) は、450 ℃ で 1 時間以上加熱することにより、大気中のH2Oと化学反応しSiO2 膜へとシリカ転化させる。
プラスチックフィルムが耐えうる 65 ℃ 未満の超低温で、約1000℃で形成する熱酸化膜品質に匹敵するSiO2の形成が可能となれば、近年注目されているフレキシブルエレクトロニクス等への広範な応用が期待できる。本研究では、ポリシラザンを 60 ℃ 程度の超低温で高品質 SiO2 膜へとシリカ転化させる独自技術の開発を行う。
業績
クラブ顧問
ソフトテニス部、フライングディスク部
家庭科同好会
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